在半导体制造工艺中，湿法刻蚀作为关键环节之一，其工艺液成分的精确控制直接影响器件加工的精度与良率。尤其是硝酸/氢氟酸混合蚀刻液体系，因酸性强、成分复杂、终点判断困难，其浓度的准确测定一直是行业关注的焦点。

传统手工滴定方式不仅操作繁琐、重复性差，还易受人为因素干扰，难以满足现代半导体制造对高精度质量控制的要求。为解决这一痛点，CT-Plus全自动电位滴定仪应运而生，以其出色的稳定性、高精度判定能力和智能化操作体验，为混酸体系分析提供了可靠的技术手段。

技术优势显著，结果精准可靠

CT-Plus电位滴定仪采用高精度液路系统与智能判定算法，具备以下核心特点：

-高精度计量系统：配备20mL高精度计量管，最小加液体积可达10μL，确保滴定过程细腻可控；

-智能终点识别：依托微分终点判定模式（微分值可设），有效避免主观误判，准确捕捉滴定终点；

-高效稳定的操作流程：方法预设、自动搅拌、实时电位监控一体化完成，单样测试仅需约2分钟；

-良好的兼容性与适应性：可搭配pH102复合电极或锑电极，适用于强酸、混酸等复杂体系。

典型应用案例：硝酸/氢氟酸混合蚀刻液浓度分析

通过实际测试数据可见，CT-Plus在硝酸/氢氟酸双组分同步测定中表现出色：

-样品质量：约0.55–0.56g

-滴定剂：0.5111mol/L氢氧化钠标准溶液

-消耗体积：硝酸终点约3.5–3.6mL，氢氟酸终点约6.2–6.5mL

-测定结果：硝酸浓度约20.72%，氢氟酸浓度约5.17%

-重复性良好，双平行试验结果偏差小，满足产线质量控制要求。

为什么选择CT-Plus？

1.方法合规、操作简便：符合行业标准测试流程，无需复杂前处理，降低操作门槛；

2.数据可追溯、报告直观：内置数据记录和计算功能，可直接输出含量百分比与平均值；

3.广泛适用于复杂体系：不仅可用于硝酸/氢氟酸，还可扩展至其它混酸、碱液及氧化还原体系；

4.帮助企业提质增效：减少人工误差，提高检测一致性，是湿法刻蚀工艺控制的理想选择。

无论是研发实验室还是量产质检环节，CT-Plus自动电位滴定仪均可提供快速、准确、稳定的酸浓度分析结果，协助企业实现工艺液管理的精细化、自动化与标准化。

CT-Plus——以精准数据，助您掌控每一个刻蚀细节。

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